● 3um particle 去除率高達98%以上。 ● 免維修、低損耗、空間易配置。 ● 氣流平衡設計，Particle不外流。 ● 非接觸式除塵，無損傷材質疑慮。 ● 可配合客戶設備空間，客製化設計。 ● HEAD內藏滾輪，薄型材料亦可通過， 配置上下HEAD可雙面清潔。
適用於薄型材料，如銅箔、光學膜、載板等，雙面清潔製程。
